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電子束曝光系統
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電子束曝光系統
產品詳情
美國JC Nabity Lithography Systems公司一直致力于基于商品SEM、STEM或FIB的電子束光刻裝置的研制，其研發的EBL電子束曝光系統（Nanometer Pattern Generation System納米圖形發生系統，簡稱NPGS）技術優異，世界各地越來越多的用戶包括大學、科研機構及政府實驗室在使用NPGS進行EBL研究工作.
基于SEM/FIB改裝的NPGS V9.1電子束曝光系統
1)NPGS以既有的SEM、STEM或FIB等為基礎，外加電子束控制系統，透過電腦界面控制電鏡中電子束的矢量掃描，以直接刻寫圖形。
2)NPGS系統兼具原SEM的觀測功能。不影響SEM本身功能。
3)功能強大、操作簡便、使用靈活。
4)NPGS和當今主流的SEM或FIB等均可配套。
NPGS V9.0是一個可以控制掃描電鏡電子束的軟件程序。基于電鏡的電子束曝光簡單分為兩部分：刻寫設計和圖形運行。刻寫設計是通過NPGS隨機提供的DesignCAD程序來做。此CAD程序已經過修改，增加了用于電子束曝光的命令。圖形運行包括設定參數，用于NPGS計算圖形上每個點的位置以及曝光時間。
產品外觀
